TEOS电子化学品开发

技术需求

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技术需求名称：TEOS电子化学品开发

需求类型：产品	需求编号：Q（XD）2018012513
所属行业：新材料	终端产品及应用范围
合作方式：合作开发、技术服务	拟投资金

技术需求详述：

  需求内容：研发半导体产业用的TEOS电子化学品，采用选择氧化进行器件隔离时所使用的氮化硅薄膜也是用低压CVD法，
利用氨和SiH4 或Si2H6反应面生成的，作为层间绝缘的SiO2薄膜是用SiH4和O2在400--450℃的温度下形成SiH4+O2-SiO2+2H2
或是用Si(OC2H5)4(TEOS:tetra ethoxy silanc)和O2在750℃左右的高温下反应生成的，
  后者即采用TEOS形成的SiO2膜具有台阶侧面部被覆性能好的优点。

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